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世界初の小型レーザー平面加熱装置『ExLASER Lite』を、12月開催のSEMICON JAPAN 2009に出展!

世界で唯一のレーザー平面加熱装置「ExLASER」(エックス・レーザー)を開発した坂口電熱株式会社(所在地:東京都千代田区、代表取締役社長:蜂谷 真弓)は、従来機を小型化し、小面積加熱を実現した『ExLASER Lite(エックス・レーザー ライト)』を開発いたしました。

その『ExLASER Lite』を、12月2日より行われる「SEMICON JAPAN 2009」に出展し、シリコンウェハーの加熱実演、加熱実験の予約受付を行います。

世界で唯一の装置を身近に感じることができる機会です。是非ご参加ください。

詳細: http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/exhibitor/10133.html


■『ExLASER Lite』について
東京商工会議所主催の第7回「勇気ある経営大賞」(2009年)で『勇気ある経営大賞』を受賞した「ExLASER」の小型版です。
レーザー1ショット(4秒)で1,000℃まで高速に昇温でき、かつ0.5インチ径を均一に加熱することができます。スイッチを切って7秒で400℃まで降温できるという急昇降を実現いたしました。

半導体製造の現場では、シリコンウェハーを高温で加熱し、温度を急降下させる過程がありますので、『ExLASER Lite』により作業の効率化、コスト削減を図ることができます。

『ExLASER Lite』の特徴は、以下の通りです。

・従来のExLASERに比べコンパクト設計
・小面積(φ0.5インチ)、1ショット加熱を実現
・ワイドラック収納一体型。キャスター付きで移動が可能
・操作が簡単!
・従来機同様に超高速な昇温降温を実現
・被加熱対象物のみへの直接加熱。雰囲気を加熱しません


■SEMICON JAPAN 2009出展について

『ExLASER Lite』を使い、0.5インチ径サイズ シリコンウェハーの加熱実演を行います。また、当日ご来場いただいたお客様には、それぞれのお客様が加熱したい物をお持ちいただき、『ExLASER Lite』での加熱を試すことができる加熱実験のご予約を承ります。

通常は1回20万円かかるこの実験を、会期中のみ、1回5万円という特別価格にてご提供いたします。

開催地 : 幕張メッセ
開催日時: 2009年12月2日(水)〜4日(金)
小間番号: 3D-008
詳細  : http://www.semiconjapan.jp/booth-search/j/exhibitor/10133.html
参加方法: 入場には、 http://www.semiconjapan.org/sj-jp/Exhibition/Register/index.htm?parent=yes&parentId=89 より事前登録が必要です。
参加費 : 無料


■坂口電熱株式会社 会社概要
社名  : 坂口電熱株式会社(SAKAGUCHI E.H VOC CORP.)
本社  : 〒101-0021 東京都千代田区外神田1-12-2
代表  : 代表取締役社長 蜂谷 真弓
創業  : 1923年(大正12年)
資本金 : 460,000,000円
TEL   : 03-3253-8211(大代表)
FAX   : 03-3253-7540
URL   : http://www.sakaguchi.com/
事業内容: 電熱技術を中心とした真空・バイオ・光学・化学分野の製品開発、
      電熱機器の製造・販売


■ご予約に関するお問い合わせ先
坂口電熱株式会社 経営戦略室 経営企画課
TEL  : 03-5669-4424
FAX  : 03-3632-3208
E-MAIL: m_igarashi@sakaguchi.com
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