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ジェイテクトグループ 「SEMICON Japan 2022」に出展

ジェイテクトグループが一体となり、成長分野である半導体市場に貢献する製品を紹介

株式会社ジェイテクトは、ジェイテクトグループ各社と共に、12月14日〜16日に東京ビッグサイトで開催される、SEMICON Japan 2022に出展いたします。




株式会社ジェイテクト(本社: 愛知県刈谷市、取締役社長:佐藤和弘、以下「ジェイテクト」)は、ジェイテクトグループ各社と共に、12月14日〜16日に東京ビッグサイトで開催される、SEMICON Japan 2022(主催:SEMIジャパン)に出展いたします。
SEMICON Japanは、半導体産業における製造技術、装置、材料をはじめ、車やIoT機器などのSMARTアプリケーションまでをカバーした、エレクトロニクス製造サプライチェーンの国際展示会です。
ジェイテクトは今年4月に、これまで工作機械やベアリングなど事業部門ごとに異なっていた事業ブランドを「JTEKT」に統一しました。本展示会では、ジェイテクトグループ各社が一体となり、成長分野である半導体市場に貢献する製品をご紹介します。

【出展会社と主な出展製品】
<前工程ゾーンへの出展会社>
株式会社ジェイテクトサーモシステム(本社:奈良県天理市、取締役社長:竹岡伸高)
<主な出展製品>
◆SiCパワー半導体用 コンタクトアニール炉 「RLA-4100-V」
複数のハロゲンランプを熱源とし、ウェーハを短時間かつ高精度にアニールする熱処理装置です。SiC(炭化ケイ素)やGaN(窒化ガリウム)などの各種ウェーハに対応します。N2(窒素)ロードロックおよび真空ロードロック搬送対応により、時間当たりの業務処理量が向上します。

[画像1: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-6afb5de03d9695944798-0.jpg ]

◆SiCパワー半導体用 活性化アニール用縦型炉 「VF-5300HLP」
1900℃超の超高温熱処理が可能で、SiCパワー半導体の活性化アニールに最適です。φ8インチまでの幅広いウェーハサイズに対応し、一度に100枚まで処理が可能な量産性に優れた装置もラインナップされています。

[画像2: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-74f900c8c3f98dd23f0b-1.png ]

◆SiCパワー半導体用 ゲート絶縁膜形成用縦型炉 「VF-5300H」
1400℃の高温熱処理が可能で、SiCパワー半導体の酸窒化、窒化、酸化処理に最適な装置です。φ8インチまでの幅広いウェーハサイズに対応し、一度に100枚まで処理が可能な量産性に優れた装置もラインナップされています。

[画像3: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-a164426bb1fdb6453cf5-2.png ]

<小間番号>前工程ゾーン 東5ホール 5838

[画像4: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-f28ce53fd2bf808db97f-3.png ]


<総合ゾーンへの出展会社1.>
株式会社ジェイテクトマシンシステム(本社:大阪府八尾市、取締役社長:宮藤賢士)
<主な出展製品>
◆硬脆材料・複合材料ウェーハ研削盤 「R631DF」
SiCやGaNなどの硬脆材料や複合材料といった難削材料のウェーハ研削に対応します。オプションで傾斜テーブルを搭載することで、結晶方位の角度誤差を補正して研削することも可能です。

[画像5: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-44dedcead6da8bc46d90-4.png ]

<総合ゾーンへの出展会社2.>
株式会社ジェイテクトグラインディングツール(本社:愛知県岡崎市、取締役社長:望月美樹)
<主な出展製品>
◆SiCウェーハ平面加工用ビトリファイドダイヤモンドホイール「nanoVi」
業界最小粒径0.5μmの超微粒ダイヤを均等にする革新製法により砥粒数や砥粒間隔を適正化し、切れ味と加工品質の持続的安定化を実現しました。また、高強度ガラス結合剤を採用することで砥石強度を従来比1.6倍と高め、砥石摩耗量を抑制します。「nanoVi」は、ジェイテクトマシンシステムの硬脆材料・複合材料ウェーハ研削盤 「R631DF」への搭載が可能であり、ジェイテクトグループのコラボレーションで、より高品質なウェーハ研削に貢献します。

[画像6: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-7c99cc12c7ba72234a0f-5.png ]


◆新レジンホイール「レボメイト」
砥粒突出しを維持する新開発結合剤や高靭性砥粒を採用することで、切れ味の持続性を高め、ドレスインターバルの延長を可能とします。SiCやアルミナなどのセラミックス素材を用いた半導体製造用治具の平面研削に最適です。

[画像7: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-7307ec624f267ccdab4d-6.png ]


※同ブースでは、光洋マグネティックベアリングとジェイテクトの製品も出展します。

<総合ゾーンへの出展会社3.>
株式会社光洋マグネティックベアリング(本社:大阪府寝屋川市、取締役社長:原田憲章)
<主な出展製品>
◆磁気軸受
電磁力により完全非接触の状態で軸を支持し、超高速回転を可能とします。発塵もなく、潤滑油も不要なため、革新的なクリーン環境作りに貢献します。

[画像8: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-326db530432bc7459eb7-7.jpg ]


<総合ゾーンへの出展会社4.>
株式会社ジェイテクト(本社:愛知県刈谷市、取締役社長:佐藤和弘)
<主な出展製品>
◆磁気軸受用タッチダウン軸受
主にターボ分子ポンプに使用される磁気軸受と共に使われ、非常停止時にポンプを保護する保護用軸受です。新開発のMoS2コーティングにより長寿命を実現。光洋マグネティックベアリング製の磁気軸受の保護軸受としても使用されています。ジェイテクトグループのコラボレーションで、機械の安定稼働に貢献します。

[画像9: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-1bfe201772695be81e92-8.jpg ]

[画像10: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-86b7c2b98632ca6d5d7f-9.jpg ]



◆真空・クリーン用軸受
高真空10-8Paまで対応可能で環境負荷物質を含まないふっ素グリースを封入した新開発の軸受を初出展します。特殊なふっ素高分子膜をコーティングした軸受もラインナップし、幅広い真空・クリーン環境に対応。半導体製造装置に要求される高度なクリーン性維持に貢献します。

◆耐食軸受
様々なセラミック材料を使用した軸受をラインナップしており、ほとんどの腐食環境に対応可能です。半導体製造装置内の強い腐食環境に対しても優れた信頼性があります。フィルム製造装置や、半導体製造工程内の酸化、エッチング工程などに使用されています。

◆高温用軸受
350℃の高温に対応可能で、高温用固体潤滑剤よりも低発塵なふっ素グリースを開発しました。固体潤滑軸受の6倍以上もの長寿命で、装置のランニングコスト低減にも貢献します。オイルフリーが要求される環境で使用可能な固体潤滑コーティングもラインナップしており、様々な超高温環境に対応。半導体製造工程内で特に高温となる加熱炉の可動部や、搬送工程で使用されています。

◆Kシリーズ軸受
「薄く・そして軽く」というテクニカルなニーズに応えた製品で、半導体製造工程のウェーハ搬送ロボットなどに幅広く使用されています。

<小間番号>総合ゾーン 東2ホール 2141

[画像11: https://prtimes.jp/i/28729/299/resize/d28729-299-854d70d207d28b45c490-10.png ]


【ご参考】
ジェイテクトサーモシステムWebサイト:
https://thermos.jtekt.co.jp/
ジェイテクトマシンシステムWebサイト:
https://www.machine.jtekt.co.jp/
ジェイテクトグラインディングツールWebサイト:
https://www.tools.jtekt.co.jp/
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