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AndTech セミナーテキスト「ナノインプリントリソグラフィによる微細加工技術・プロセス評価および半導体・デバイス・光学材料への応用展開」販売中
[23/02/27]
提供元：PRTIMES
提供元：PRTIMES
株式会社AndTechは、2023年1月24日開催「ナノインプリントリソグラフィによる微細加工技術・プロセス評価および半導体・デバイス・光学材料への応用展開」のセミナー資料を販売しました。
ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎、使用される樹脂やモールドについての知識やプロセス・材料の最適設計、欠陥対策等を解説。
上記に加え、三次元構造の作成技術等様々な可能性を秘めたシーズについて紹介し、さらに半導体・電子デバイスへの応用展開等について最新の動向に触れながら解説します。
ナノインプリント装置の基本的なラインナップを示し、UV硬化のメカニズムと測定方法、また、応用例として反射防止構造への応用や医療分野への新展開についても解説
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) についても解説。
※このテキストは2023年1月24日に実施したセミナー資料です。
詳細：https://andtech.co.jp/books_detail/?id=11874
[画像1: https://prtimes.jp/i/80053/378/resize/d80053-378-cd2b459df3163a253f42-0.jpg ]
テキスト概要
テーマ：AT20230124：ナノインプリントリソグラフィによる微細加工技術・プロセス評価および半導体・デバイス・光学材料への応用展開
発刊日：2023年2月15日
価 格：22,000円(本体20,000円+消費税、送料込)
U R L ：https://andtech.co.jp/books_detail/?id=11874
テキスト内容構成
ー執筆者（敬称略、掲載順）ー
第１部 リソテックジャパン株式会社 ナノサイエンス研究部 部長
博士（工学）
大阪公立大学 大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
第２部 芝浦機械株式会社 執行役員
R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏
ー目次ー
第１部 熱・光ナノインプリントリソグラフィの
装置・プロセス評価技術とその新展開
1．はじめに
2．ナノインプリント技術への取り組み
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
4．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置開発
5．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
6．まとめ
第２部 ナノインプリント装置の設計と開発、デバイス適用例の紹介
- LED、ウエハレベルレンズ（WLL）、
ワイヤーグリッド偏光子（Wire Grid Polarizer）など –
1．芝浦機械株式会社の紹介
2．ナノインプリントプロセス
3．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
4．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
株式会社AndTechについて
[画像2: https://prtimes.jp/i/80053/378/resize/d80053-378-6a404a94af0139243ef5-1.jpg ]
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/
株式会社AndTech 技術講習会一覧
[画像3: https://prtimes.jp/i/80053/378/resize/d80053-378-8ec86b901ebf8a70a2ba-3.jpg ]
一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminar_category/
株式会社AndTech 書籍一覧
[画像4: https://prtimes.jp/i/80053/378/resize/d80053-378-bb9444ef88710c091279-2.jpg ]
選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
https://andtech.co.jp/books/
株式会社AndTech コンサルティングサービス
[画像5: https://prtimes.jp/i/80053/378/resize/d80053-378-798b3bc5d9fb8edca17a-4.jpg ]
経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business_consulting/
本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記テキスト 全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
目次
第１部 熱・光ナノインプリントリソグラフィの
装置・プロセス評価技術とその新展開
１．はじめに
２．ナノインプリント技術への取り組み
2.1 ナノインプリントリソグラフィー（NIL)の概要
2.2 プロセス評価用ナノインプリント装置
(1)実験用熱・光対応インプリント装置
(2)実験用熱インプリント装置
(3)光ロールTOロールナノインプリント装置
(4)実験用小型熱・光・真空インプリント装置
(5)ナノインプリント用アライメント装置
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
3.1 はじめに
3.2 硬化特性測定装置の概要
3.3 実験および結果
3.4 まとめ
4．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置開発
4.1 はじめに
4.2 実験装置の製作
4.3 実験および結果
4.4 まとめ
５．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
5.1 バイオミメティクス
5.2 バイオミメティクスを用いた防汚機能を有する胆管ステント開発
(1)はじめに
(2)バイオミメティクス技術の応用
(3)防汚機能を有する胆管ステント
(4)ステント製作と評価
(5)動物実験
(6)まとめ
６．まとめ
第２部 ナノインプリント装置の設計と開発、デバイス適用例の紹介
- LED、ウエハレベルレンズ（WLL）、
ワイヤーグリッド偏光子（Wire Grid Polarizer）など –
１．芝浦機械株式会社の紹介
２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎、使用される樹脂やモールドについての知識やプロセス・材料の最適設計、欠陥対策等を解説。
上記に加え、三次元構造の作成技術等様々な可能性を秘めたシーズについて紹介し、さらに半導体・電子デバイスへの応用展開等について最新の動向に触れながら解説します。
ナノインプリント装置の基本的なラインナップを示し、UV硬化のメカニズムと測定方法、また、応用例として反射防止構造への応用や医療分野への新展開についても解説
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) についても解説。
※このテキストは2023年1月24日に実施したセミナー資料です。
詳細：https://andtech.co.jp/books_detail/?id=11874
[画像1: https://prtimes.jp/i/80053/378/resize/d80053-378-cd2b459df3163a253f42-0.jpg ]
テキスト概要
テーマ：AT20230124：ナノインプリントリソグラフィによる微細加工技術・プロセス評価および半導体・デバイス・光学材料への応用展開
発刊日：2023年2月15日
価 格：22,000円(本体20,000円+消費税、送料込)
U R L ：https://andtech.co.jp/books_detail/?id=11874
テキスト内容構成
ー執筆者（敬称略、掲載順）ー
第１部 リソテックジャパン株式会社 ナノサイエンス研究部 部長
博士（工学）
大阪公立大学 大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
第２部 芝浦機械株式会社 執行役員
R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏
ー目次ー
第１部 熱・光ナノインプリントリソグラフィの
装置・プロセス評価技術とその新展開
1．はじめに
2．ナノインプリント技術への取り組み
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
4．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置開発
5．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
6．まとめ
第２部 ナノインプリント装置の設計と開発、デバイス適用例の紹介
- LED、ウエハレベルレンズ（WLL）、
ワイヤーグリッド偏光子（Wire Grid Polarizer）など –
1．芝浦機械株式会社の紹介
2．ナノインプリントプロセス
3．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
4．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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株式会社AndTech 技術講習会一覧
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株式会社AndTech 書籍一覧
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目次
第１部 熱・光ナノインプリントリソグラフィの
装置・プロセス評価技術とその新展開
１．はじめに
２．ナノインプリント技術への取り組み
2.1 ナノインプリントリソグラフィー（NIL)の概要
2.2 プロセス評価用ナノインプリント装置
(1)実験用熱・光対応インプリント装置
(2)実験用熱インプリント装置
(3)光ロールTOロールナノインプリント装置
(4)実験用小型熱・光・真空インプリント装置
(5)ナノインプリント用アライメント装置
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
3.1 はじめに
3.2 硬化特性測定装置の概要
3.3 実験および結果
3.4 まとめ
4．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置開発
4.1 はじめに
4.2 実験装置の製作
4.3 実験および結果
4.4 まとめ
５．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
5.1 バイオミメティクス
5.2 バイオミメティクスを用いた防汚機能を有する胆管ステント開発
(1)はじめに
(2)バイオミメティクス技術の応用
(3)防汚機能を有する胆管ステント
(4)ステント製作と評価
(5)動物実験
(6)まとめ
６．まとめ
第２部 ナノインプリント装置の設計と開発、デバイス適用例の紹介
- LED、ウエハレベルレンズ（WLL）、
ワイヤーグリッド偏光子（Wire Grid Polarizer）など –
１．芝浦機械株式会社の紹介
２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
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