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身の周りのあらゆる機器に必要な半導体デバイス。キヤノンは、半導体の回路パターンを形成する半導体露光装置を開発・製造しています。現在、15nm（※）以下の細かい回路パターンをつくり出す「ナノインプリント」技術を活用した、新方式の半導体製造装置の開発を進めており、最先端の半導体デバイス製造への適用をめざしています。その精密さは、0.5ｍｍのシャーペンの芯に3万本以上の線を書ける細さに当たります。このたび、キヤノン公式サイトに、「ナノインプリントリソグラフィ」技術のしくみがわかる動画を初公開しました。




<ナノインプリントリソグラフィ＞
https://global.canon/ja/v-square/82.html

[画像1: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-726652d1995390f3021f-0.jpg ]

[画像2: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-4bab9600f46686de227e-1.jpg ]

現在の半導体デバイスは、ウエハーと呼ばれる土台の上に光で回路パターンを焼き付けています。それに対して「ナノインプリントリソグラフィ」は、ウエハー上に塗布された樹脂（レジスト）に、パターンを刻んだマスク（型）を押し当てて回路パターンを形成します。まさに「はんこ」の原理を使った最新技術は、既存の最先端露光技術と比べて製造時の消費電力を約10分の1まで削減でき、省エネ技術としても注目されています。本動画では、レジストの塗布から回路パターン形成までの流れをわかりやすく紹介しています。ぜひご覧ください。

[画像3: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-05b9b0b484c27ace6181-2.jpg ]

[画像4: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-2b0beea76ef7789abdfb-3.jpg ]

（ご参考）テクノロジーサイト　ナノインプリントリソグラフィ
https://global.canon/ja/technology/frontier07.html

※　1nm（ナノメートル）は、10億分の1メートル。