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【ライブ配信セミナー】レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向 12月21日（火）開催 主催：(株)シーエムシー・リサーチ
[21/11/30]
提供元：PRTIMES
提供元：PRTIMES
本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。
先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向」と題するセミナーを、 講師に遠藤 政孝 氏 大阪大学 産業科学研究所 招聘教授）をお迎えし、2021年12月21日（火）10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：55,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：49,500円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
https://cmcre.com/archives/87906/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。
メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードのデバイスが量産されている、また、来年には3nmロジックノードのデバイス量産が予定されています。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめます。
1）セミナーテーマ及び開催日時
テーマ：レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向
開催日時：2021年12月21日（火）10:30〜16:30
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：遠藤 政孝 氏 大阪大学 産業科学研究所 招聘教授
【セミナーで得られる知識】
・レジスト、微細加工用材料の基礎知識
・リソグラフィの基礎知識・最新技術
・レジスト、微細加工用材料の要求特性
・レジスト、微細加工用材料の課題と対策
・レジスト、微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向
※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2）申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/87906/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
[画像: https://prtimes.jp/i/12580/1617/resize/d12580-1617-726876663119a4de3503-0.jpg ]
3）セミナープログラムの紹介
1. リソグラフィの基礎
1.1 露光
1.1.1 コンタクト露光
1.1.2 ステップ＆リピート露光
1.1.3 スキャン露光
1.2 照明方法
1.2.1 斜入射（輪帯）照明
1.3 マスク
1.3.1 位相シフトマスク
1.3.2 光近接効果補正（OPC）
1.3.3 マスクエラーファクター（MEF）
1.4 レジストプロセス
1.4.1 反射防止プロセス
1.4.2 ハードマスクプロセス
1.4.3 化学機械研磨（CMP）技術
1.5 ロードマップ
1.5.1 IRDSロードマップ
1.5.1.1 リソグラフィへの要求特性
1.5.1.2 レジスト、微細加工用材料への要求特性
1.5.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
2. レジストの基礎
2.1 溶解阻害型レジスト
2.1.1 g線レジスト
2.1.2 i線レジスト
2.2 化学増幅型レジスト
2.2.1 KrFレジスト
2.2.2 ArFレジスト
2.2.3 化学増幅型レジストの安定化技術
3. レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の最新技術
3.1 液浸リソグラフィ
3.1.1 液浸リソグラフィの基本と課題
3.1.1.1 従来 NAレンズでの液浸リソグラフィ
3.1.1.2 高NAレンズでの液浸リソグラフィ
3.1.2 液浸リソグラフィ用トップコート
3.1.3 液浸リソグラフィ用レジスト
3.1.3.1 液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
3.1.3.2 液浸リソグラフィ用レジストの設計指針
3.2 ダブル/マルチパターニング
3.2.1 ダブル/マルチパターニングの基本と課題
3.2.2 リソーエッチ（LE）プロセス用材料
3.2.3 セルフアラインド（SA）プロセス用材料
3.3 EUVリソグラフィ
3.3.1 EUVリソグラフィの基本と課題
3.3.2 EUVレジスト
3.3.2.1 EUVレジストの要求特性
3.3.2.2 EUVレジストの設計指針
3.3.2.2.1 EUVレジスト用ポリマー
3.3.2.2.2 EUVレジスト用酸発生剤
3.3.2.3 EUVレジストの課題と対策
3.3.2.3.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
3.3.2.3.2 ランダム欠陥（Stochastic Effects）
3.3.2.4 最新のEUVレジスト
3.3.2.4.1 分子レジスト
3.3.2.4.2 ネガレジスト
3.3.2.4.3 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
3.3.2.4.4 無機/メタルレジスト
3.4 自己組織化（DSA）リソグラフィ
3.4.1 自己組織化リソグラフィの基本と課題
3.4.2 グラフォエピタキシー用材料
3.4.3 ケミカルエピタキシー用材料
3.4.4 高χ（カイ）ブロックコポリマー
3.4.4.1 Si含有型ブロックコポリマー
3.4.4.2 有機型ブロックコポリマー
3.5 ナノインプリントリソグラフィ
3.5.1 ナノインプリントリソグラフィの基本と課題
3.5.2 加圧方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
3.5.3 光硬化方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
3.5.3.1 光硬化材料
3.5.3.2 離型剤
4. リソグラフィの技術展望
5. レジスト、微細加工用材料の技術展望と市場動向
4）講師紹介
【講師経歴】
1983年 松下電器産業（株） 入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック（株）セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト、EUV レジストの研究開発に従事。
【学 会】
フォトポリマー学会 企画委員長、フォトポリマー懇話会 企画委員長
【著 書】
「迫りくるAI時代に向けた半導体製造プロセスの今」（情報機構）[共著]他
5）セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/87906/
6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内
〇 非接触・抗菌・抗ウイルスタッチパネルと透明導電性フィルムの応用展開
開催日時：2021年12月7日（火）12：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87368/
〇 バイオリアクターの装置および操作の設計、スケールアップ
開催日時：2021年12月7日（火）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/83799/
〇 繊維強化プラスチックの基礎・CFRPを中心に
開催日時：2021年12月7日（火）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87451/
〇 汎用リチウムイオン電池の性能・劣化・寿命評価
開催日時：2021年12月8日（水）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/82711/
〇 導電性コンポジットの開発に向けたフィラーの種類、特性と配合・分散技術
開催日時：2021年12月8日（水）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/85797/
〇 異種材料接着・接合の基礎と最新技術、及び強度／信頼性／耐久性向上と寿命予測法
開催日時：2021年12月8日（水）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87674/
〇 マテリアルズインフォマティクスの中核をなす計算科学シミュレーション技術
開催日時：2021年12月9日（木）10:30〜16:30
https://cmcre.com/archives/87656/
〇 自動車用ワイヤレス給電の基礎と実用化に向けた法整備・標準化、及び技術的課題
開催日時：2021年12月9日（木）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/85893/
〇 バイオガスから新エネルギー 〜 カーボンニュートラル循環型酪農への取り組み 〜
開催日時：2021年12月9日（木）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87018/
〇 リチウムイオン2次電池・次世代電池の課題を解決する新規な電池理論
開催日時：2021年12月10日（金）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/88153/
〇 シランカップリング剤のすべてが分かる一日速習セミナー
開催日時：2021年12月10日（金）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/83365/
〇 バッテリーマネジメント用リチウムイオン電池のインピーダンス測定の考え方
開催日時：2021年12月10日（金）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/86914/
〇 二酸化炭素の資源化を目指した光触媒反応の開発
開催日時：2021年12月13日（月）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87793/
〇 燃料アンモニア製造技術と将来展望
開催日時：2021年12月13日（月）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/86929/
〇 ゾル-ゲル法入門 〜 多孔性材料の合成から利用まで 〜
開催日時：2021年12月13日（月）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87761/
〇 ものづくりの電化・リサイクル構築のためのマイクロ波の基礎と応用、及びスケールアップ
開催日時：2021年12月14日（火）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87046/
〇 全固体リチウム二次電池の開発状況と展望
開催日時：2021年12月14日（火）12：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/86110/
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上
先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向」と題するセミナーを、 講師に遠藤 政孝 氏 大阪大学 産業科学研究所 招聘教授）をお迎えし、2021年12月21日（火）10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：55,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：49,500円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
https://cmcre.com/archives/87906/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。
メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードのデバイスが量産されている、また、来年には3nmロジックノードのデバイス量産が予定されています。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめます。
1）セミナーテーマ及び開催日時
テーマ：レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向
開催日時：2021年12月21日（火）10:30〜16:30
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：遠藤 政孝 氏 大阪大学 産業科学研究所 招聘教授
【セミナーで得られる知識】
・レジスト、微細加工用材料の基礎知識
・リソグラフィの基礎知識・最新技術
・レジスト、微細加工用材料の要求特性
・レジスト、微細加工用材料の課題と対策
・レジスト、微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向
※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2）申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/87906/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
[画像: https://prtimes.jp/i/12580/1617/resize/d12580-1617-726876663119a4de3503-0.jpg ]
3）セミナープログラムの紹介
1. リソグラフィの基礎
1.1 露光
1.1.1 コンタクト露光
1.1.2 ステップ＆リピート露光
1.1.3 スキャン露光
1.2 照明方法
1.2.1 斜入射（輪帯）照明
1.3 マスク
1.3.1 位相シフトマスク
1.3.2 光近接効果補正（OPC）
1.3.3 マスクエラーファクター（MEF）
1.4 レジストプロセス
1.4.1 反射防止プロセス
1.4.2 ハードマスクプロセス
1.4.3 化学機械研磨（CMP）技術
1.5 ロードマップ
1.5.1 IRDSロードマップ
1.5.1.1 リソグラフィへの要求特性
1.5.1.2 レジスト、微細加工用材料への要求特性
1.5.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
2. レジストの基礎
2.1 溶解阻害型レジスト
2.1.1 g線レジスト
2.1.2 i線レジスト
2.2 化学増幅型レジスト
2.2.1 KrFレジスト
2.2.2 ArFレジスト
2.2.3 化学増幅型レジストの安定化技術
3. レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の最新技術
3.1 液浸リソグラフィ
3.1.1 液浸リソグラフィの基本と課題
3.1.1.1 従来 NAレンズでの液浸リソグラフィ
3.1.1.2 高NAレンズでの液浸リソグラフィ
3.1.2 液浸リソグラフィ用トップコート
3.1.3 液浸リソグラフィ用レジスト
3.1.3.1 液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
3.1.3.2 液浸リソグラフィ用レジストの設計指針
3.2 ダブル/マルチパターニング
3.2.1 ダブル/マルチパターニングの基本と課題
3.2.2 リソーエッチ（LE）プロセス用材料
3.2.3 セルフアラインド（SA）プロセス用材料
3.3 EUVリソグラフィ
3.3.1 EUVリソグラフィの基本と課題
3.3.2 EUVレジスト
3.3.2.1 EUVレジストの要求特性
3.3.2.2 EUVレジストの設計指針
3.3.2.2.1 EUVレジスト用ポリマー
3.3.2.2.2 EUVレジスト用酸発生剤
3.3.2.3 EUVレジストの課題と対策
3.3.2.3.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
3.3.2.3.2 ランダム欠陥（Stochastic Effects）
3.3.2.4 最新のEUVレジスト
3.3.2.4.1 分子レジスト
3.3.2.4.2 ネガレジスト
3.3.2.4.3 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
3.3.2.4.4 無機/メタルレジスト
3.4 自己組織化（DSA）リソグラフィ
3.4.1 自己組織化リソグラフィの基本と課題
3.4.2 グラフォエピタキシー用材料
3.4.3 ケミカルエピタキシー用材料
3.4.4 高χ（カイ）ブロックコポリマー
3.4.4.1 Si含有型ブロックコポリマー
3.4.4.2 有機型ブロックコポリマー
3.5 ナノインプリントリソグラフィ
3.5.1 ナノインプリントリソグラフィの基本と課題
3.5.2 加圧方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
3.5.3 光硬化方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
3.5.3.1 光硬化材料
3.5.3.2 離型剤
4. リソグラフィの技術展望
5. レジスト、微細加工用材料の技術展望と市場動向
4）講師紹介
【講師経歴】
1983年 松下電器産業（株） 入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック（株）セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト、EUV レジストの研究開発に従事。
【学 会】
フォトポリマー学会 企画委員長、フォトポリマー懇話会 企画委員長
【著 書】
「迫りくるAI時代に向けた半導体製造プロセスの今」（情報機構）[共著]他
5）セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/87906/
6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内
〇 非接触・抗菌・抗ウイルスタッチパネルと透明導電性フィルムの応用展開
開催日時：2021年12月7日（火）12：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87368/
〇 バイオリアクターの装置および操作の設計、スケールアップ
開催日時：2021年12月7日（火）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/83799/
〇 繊維強化プラスチックの基礎・CFRPを中心に
開催日時：2021年12月7日（火）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87451/
〇 汎用リチウムイオン電池の性能・劣化・寿命評価
開催日時：2021年12月8日（水）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/82711/
〇 導電性コンポジットの開発に向けたフィラーの種類、特性と配合・分散技術
開催日時：2021年12月8日（水）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/85797/
〇 異種材料接着・接合の基礎と最新技術、及び強度／信頼性／耐久性向上と寿命予測法
開催日時：2021年12月8日（水）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87674/
〇 マテリアルズインフォマティクスの中核をなす計算科学シミュレーション技術
開催日時：2021年12月9日（木）10:30〜16:30
https://cmcre.com/archives/87656/
〇 自動車用ワイヤレス給電の基礎と実用化に向けた法整備・標準化、及び技術的課題
開催日時：2021年12月9日（木）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/85893/
〇 バイオガスから新エネルギー 〜 カーボンニュートラル循環型酪農への取り組み 〜
開催日時：2021年12月9日（木）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87018/
〇 リチウムイオン2次電池・次世代電池の課題を解決する新規な電池理論
開催日時：2021年12月10日（金）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/88153/
〇 シランカップリング剤のすべてが分かる一日速習セミナー
開催日時：2021年12月10日（金）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/83365/
〇 バッテリーマネジメント用リチウムイオン電池のインピーダンス測定の考え方
開催日時：2021年12月10日（金）10：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/86914/
〇 二酸化炭素の資源化を目指した光触媒反応の開発
開催日時：2021年12月13日（月）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87793/
〇 燃料アンモニア製造技術と将来展望
開催日時：2021年12月13日（月）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/86929/
〇 ゾル-ゲル法入門 〜 多孔性材料の合成から利用まで 〜
開催日時：2021年12月13日（月）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87761/
〇 ものづくりの電化・リサイクル構築のためのマイクロ波の基礎と応用、及びスケールアップ
開催日時：2021年12月14日（火）13：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/87046/
〇 全固体リチウム二次電池の開発状況と展望
開催日時：2021年12月14日（火）12：30〜16：30
https://cmcre.com/archives/86110/
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
7）関連書籍のご案内
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https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
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