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株式会社パテント・リザルトは2015年10月23日、日本に出願されたCMP用研磨剤について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。

CMP（化学機械研磨）は化学的作用を用いることで機械的研磨の効果を増大させる技術であることから、化学的作用を引き起こすもととなる研磨剤、研磨液はCMP技術において重要な要素となります。本調査ではCMP用研磨剤に関する特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。

その結果、「総合力ランキング」では、1位日立化成、2位CABOT MICROELECTRONICS、3位フジミインコーポレーテッドとなりました。

総合力1位の日立化成は酸化セリウムを用いた研磨剤に関する特許、2位のCABOTはスラリー中のアルミナ粒子について詳しく規定した特許、3位のフジミインコーポレーテッドは金属不純物による汚染を防止することを目的とした研磨剤の組成に関する特許が高い注目度となっています。

次に、特許分類の一つであるFタームを用い、研磨剤における砥粒以外の成分について、総合力上位5社における成分別の出願比率を集計しました。

「酸化剤」、「溶媒」はどの企業も両分野に全出願の約20％に相当する出願が見られます。総合力1位の日立化成に着目すると、同社は他社の出願割合が非常に少ない「分散剤」への出願割合が高く、逆に他社が10%前後の出願を行っている「錯作成剤」への出願が少ないという特徴があります。また、金属溶解剤については日立化成及びフジミインコーポレーテッド、界面活性剤についてはJSR及び東芝の出願割合が高いということが分かります。

本分析の詳細については、特許・技術調査レポート「CMP用研磨剤関連技術」にてご覧いただけます。

■価格：100,000円〜（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
http://www.patentresult.co.jp/news/2015/10/cmp3.html


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