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株式会社パテント・リザルトは2018年6月25日、独自に分類した精密機器業界の企業を対象に、2017年の特許審査過程において他社特許への拒絶理由として引用された件数を企業別に集計した「精密機器業界　他社牽制力ランキング2017」をまとめ、ランキングデータの販売を開始しました。

この集計により、直近の技術開発において競合他社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な企業が明らかになります。

集計の結果、2017年に最も引用された企業は、キヤノン、次いでセイコーエプソン、リコーとなりました。

1位 キヤノンの最も引用された特許は、「ボトムゲート型薄膜トランジスタの製造方法及び表示装置の製造方法」（特許第5305630号）で、後発の特許20件の審査過程で拒絶理由として引用されています。企業別には半導体エネルギー研究所が19件、SAMSUNG DISPLAYが1件となっています。そのほか、有機ELに関する「発光装置とその作製方法」（特許第5197058号）などが、引用された件数の多い特許として挙げられます。
2017年に、キヤノンの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はリコー（909件）であり、次いで、セイコーエプソン（432件）、コニカミノルタ（391件）となっています。

2位 セイコーエプソンの最も引用された特許は、「送電・受電制御装置、および無接点電力伝送システム」（特許第5417907号）で、キヤノン、パナソニック、ロームなど6件の拒絶理由として引用されています。そのほか、「画像表示装置、および遊技機（特願2008-038386）」や「圧電デバイス、及び電子機器」（特願2011-244214）などが引用された件数が多い特許として挙げられます。
2017年に、セイコーエプソンの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はリコー（403件）、次いで、キヤノン（270件）、ブラザー工業（158件）となっています。

3位 リコーの最も引用された特許は、「タッチパネル装置、これを含むタッチパネル付き表示装置、及びタッチパネル装置の制御方法」（特許第5343871号）で、後発の富士通の特許7件、米Immersionの特許1件の合計8件の拒絶理由として引用されています。
そのほか、「絶縁膜の製造方法及び半導体装置の製造方法」（特許第5899615号）などが引用された件数の多い特許として挙げられます。
2017年に、リコーの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はキヤノン（534件）、次いで、京セラドキュメントソリューションズ（340件）、コニカミノルタ（295件）となっています。


本分析の詳細については、「精密機器　特許資産規模ランキング2017」にてご覧いただけます。

■価格：50,000円（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
https://www.patentresult.co.jp/news/2018/06/fcitprec.html

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