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世界最大の半導体受託製造会社であるTaiwan Semiconductor Manufacturing Company Limitedから「Excellent Performance Award」を受賞
[18/01/25]
提供元：@Press
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富士フイルム株式会社（社長：助野 健児）の半導体材料の製造・販売子会社である富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ株式会社（社長：御林 慶司 以下、FFEM）は、世界最大の半導体受託製造会社であるTaiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited（チェアマン：モリス・チャン 以下、TSMC）より、「Excellent Performance Award」を受賞しました。同受賞は昨年に続き、2年連続で4度目となります。
◆詳細はWebページをご覧下さい。
⇒ http://fujifilm.jp/information/articlead_0521.html?link=atp
FFEMは、最先端の半導体製造プロセス向けCMPスラリー（*1）および洗浄液などの開発や、台南での量産体制確立（*2）による安定供給を通じて次世代デバイス向けの半導体の生産に貢献するとともに、生産工程における廃棄物削減などで緊密な協力体制を構築したことが高く評価されました。今回、このようなTSMCへの継続的な貢献により、初めて2年連続で受賞しました。
TSMCは、毎年開催する「Supply Chain Management Forum」で、優れた実績を挙げたサプライヤーを表彰しています。今回は2017年12月7日に台湾新竹市にて開催され、“Collaborate and Win Together （手を取りあって未来を勝ち取ろう）”というテーマの下、600社以上のサプライヤー関係者が出席しました。その中から、半導体製造工程で使用される先端プロセス材料と製造機器の供給において多大な貢献を果たしたサプライヤー12社が、「Excellent Performance Award」に選出され、表彰されました。
FFEMは、半導体製造工程で使用されるフォトレジスト（*3）やイメージセンサー用材料（*4）、現像液、洗浄液、CMPスラリーなどの先端半導体材料を生産し、ワールドワイドに提供しています。モノのインターネット（Internet of Things）時代の本格的な到来を迎え、半導体市場が今後も大きく伸張することが見込まれる中、引き続き、半導体製造に役立つ製品の提供と顧客サポート体制の拡充などを図り、半導体産業の発展に貢献していきます。
*1 Chemical Mechanical Polishing（化学的機械研磨）の略。半導体の製造プロセスで使用されるウエハーを平坦化するための研磨剤。
*2 現像液と溶剤の量産体制。
*3 半導体製造の前工程で、回路パターンの描画を行う際にウエハー上に塗布する材料。
*4 デジタルカメラや携帯電話に用いられるCCDやCMOSセンサーなどのイメージセンサーのカラーフィルターを製造するための着色感光材料。
富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ ウェブサイト
⇒ http://ffem.fujifilm.co.jp/?link=atp
富士フイルムニュースリリース一覧
⇒ http://www.fujifilm.co.jp/corporate/news/index.html?link=atp
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FFEMは、最先端の半導体製造プロセス向けCMPスラリー（*1）および洗浄液などの開発や、台南での量産体制確立（*2）による安定供給を通じて次世代デバイス向けの半導体の生産に貢献するとともに、生産工程における廃棄物削減などで緊密な協力体制を構築したことが高く評価されました。今回、このようなTSMCへの継続的な貢献により、初めて2年連続で受賞しました。
TSMCは、毎年開催する「Supply Chain Management Forum」で、優れた実績を挙げたサプライヤーを表彰しています。今回は2017年12月7日に台湾新竹市にて開催され、“Collaborate and Win Together （手を取りあって未来を勝ち取ろう）”というテーマの下、600社以上のサプライヤー関係者が出席しました。その中から、半導体製造工程で使用される先端プロセス材料と製造機器の供給において多大な貢献を果たしたサプライヤー12社が、「Excellent Performance Award」に選出され、表彰されました。
FFEMは、半導体製造工程で使用されるフォトレジスト（*3）やイメージセンサー用材料（*4）、現像液、洗浄液、CMPスラリーなどの先端半導体材料を生産し、ワールドワイドに提供しています。モノのインターネット（Internet of Things）時代の本格的な到来を迎え、半導体市場が今後も大きく伸張することが見込まれる中、引き続き、半導体製造に役立つ製品の提供と顧客サポート体制の拡充などを図り、半導体産業の発展に貢献していきます。
*1 Chemical Mechanical Polishing（化学的機械研磨）の略。半導体の製造プロセスで使用されるウエハーを平坦化するための研磨剤。
*2 現像液と溶剤の量産体制。
*3 半導体製造の前工程で、回路パターンの描画を行う際にウエハー上に塗布する材料。
*4 デジタルカメラや携帯電話に用いられるCCDやCMOSセンサーなどのイメージセンサーのカラーフィルターを製造するための着色感光材料。
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