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BOE、直接描画するフォトリソグラフィのパターニングによるAMQLEDを革新的に開発
[23/05/29]
提供元：DreamNews
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BOEが既存プロセスにおける解像度上の制約を突破し、量子ドットディスプレイ業界の新トレンドをリードする
ロサンゼルス、2023年5月29日 /PRNewswire/ -- このほど、BOEテクノロジーグループは、QLEDに量子ドットを直接描画するフォトリソグラフィ技術（DP-QLED）を応用した4.7インチ、650 PPIのアクティブ量子ドット発光ダイオード（AMQLED）ディスプレイの試作に成功し、カリフォルニア州ロサンゼルスで開催されるSIDディスプレイ ウィーク 2023で見事なデビューを果たし、業界の注目を集めました。DP-QLEDプロセスをベースにしたBOEのAMQLEDプロトタイプは、10,000,000:1以上の高いコントラスト比と85%BT2020の高い色域を実現しています。これは、5インチ、14インチ、55インチ 4K（80 PPI）、そして55インチ 8K（160 PPI）の量子ドットエレクトロルミネッセンスディスプレイの開発後にBOEが発表した、もう1つの画期的なAMQLED技術です。この技術は、量子ドットディスプレイ産業技術の新しいトレンドを再び先導し、BOEが量子ドットディスプレイの分野における主要な企業の1つであることを示しました。
FMMフリー、プロセスの簡略化、開発の効率化
BOEが開発したQLEDにおける量子ドットを直接描写するフォトリソグラフィ技術（DP-QLED）は、1色の量子ドットを画素化するために、塗布、露光、現像の3段階で済みます。他のフォトリソグラフィのパターニング技術と比較して、DP-QLEDは工程数が大幅に減り、追加構造も不要であるため、効果的に生産効率を向上させつつコストを大幅に削減することができます。DP-QLEDプロセスは、成熟したフォトリソグラフィマスクを使用することにより、高価な微細金属マスク（FMM）を必要としないため、あらゆるサイズのディスプレイ分野において、サイズ、画素密度、画素レイアウト設計の組合せの自由度が高く、開口率が高く、デバイス寿命が長く、プロセスが簡単で、製品開発が柔軟かつ効率的になります。
既存プロセスにおける解像度上の制約を打破し、あらゆるサイズのディスプレイ市場を実現する
量子ドットは無機ナノ粒子であるため、インクジェット印刷が大量生産方法であると広く信じられていました。インクジェット印刷の精度に限りがあるため、一般的にQLEDは解像度300PPI以下の大型ディスプレイ製品に制限されると考えられています。BOEのユニークなDP-QLED技術は、従来の蒸着やインクジェット印刷のプロセス上の解像度の限界を打ち破るものです。その解像度は、理論的にはマスクアライナの精度に依存します。原理的には、サブミクロンの線幅のパターンも得られ、10,000PPI以上の画素密度に達することができます。BOEのDP-QLED技術は、中・小型ディスプレイ市場、そしてマイクロディスプレイ市場へのQLED技術の商業化を大きく前進させ、あらゆるサイズのディスプレイ市場を完全に網羅するのに役立ち、顧客に究極の視覚体験をもたらしました。
配信元企業：BOE Technology Group Co., Ltd.
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ロサンゼルス、2023年5月29日 /PRNewswire/ -- このほど、BOEテクノロジーグループは、QLEDに量子ドットを直接描画するフォトリソグラフィ技術（DP-QLED）を応用した4.7インチ、650 PPIのアクティブ量子ドット発光ダイオード（AMQLED）ディスプレイの試作に成功し、カリフォルニア州ロサンゼルスで開催されるSIDディスプレイ ウィーク 2023で見事なデビューを果たし、業界の注目を集めました。DP-QLEDプロセスをベースにしたBOEのAMQLEDプロトタイプは、10,000,000:1以上の高いコントラスト比と85%BT2020の高い色域を実現しています。これは、5インチ、14インチ、55インチ 4K（80 PPI）、そして55インチ 8K（160 PPI）の量子ドットエレクトロルミネッセンスディスプレイの開発後にBOEが発表した、もう1つの画期的なAMQLED技術です。この技術は、量子ドットディスプレイ産業技術の新しいトレンドを再び先導し、BOEが量子ドットディスプレイの分野における主要な企業の1つであることを示しました。
FMMフリー、プロセスの簡略化、開発の効率化
BOEが開発したQLEDにおける量子ドットを直接描写するフォトリソグラフィ技術（DP-QLED）は、1色の量子ドットを画素化するために、塗布、露光、現像の3段階で済みます。他のフォトリソグラフィのパターニング技術と比較して、DP-QLEDは工程数が大幅に減り、追加構造も不要であるため、効果的に生産効率を向上させつつコストを大幅に削減することができます。DP-QLEDプロセスは、成熟したフォトリソグラフィマスクを使用することにより、高価な微細金属マスク（FMM）を必要としないため、あらゆるサイズのディスプレイ分野において、サイズ、画素密度、画素レイアウト設計の組合せの自由度が高く、開口率が高く、デバイス寿命が長く、プロセスが簡単で、製品開発が柔軟かつ効率的になります。
既存プロセスにおける解像度上の制約を打破し、あらゆるサイズのディスプレイ市場を実現する
量子ドットは無機ナノ粒子であるため、インクジェット印刷が大量生産方法であると広く信じられていました。インクジェット印刷の精度に限りがあるため、一般的にQLEDは解像度300PPI以下の大型ディスプレイ製品に制限されると考えられています。BOEのユニークなDP-QLED技術は、従来の蒸着やインクジェット印刷のプロセス上の解像度の限界を打ち破るものです。その解像度は、理論的にはマスクアライナの精度に依存します。原理的には、サブミクロンの線幅のパターンも得られ、10,000PPI以上の画素密度に達することができます。BOEのDP-QLED技術は、中・小型ディスプレイ市場、そしてマイクロディスプレイ市場へのQLED技術の商業化を大きく前進させ、あらゆるサイズのディスプレイ市場を完全に網羅するのに役立ち、顧客に究極の視覚体験をもたらしました。
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