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マスクレスリソグラフィーシステムのリーディングサプライヤーであるハイデルベルグ・インストルメンツは、最先端の機能を備えたレーザー直接描画装置DWL 66+を株式会社富士フイルムメディアクレストに納入したことを、2018年12月3日にドイツ・ハイデルベルグで発表しました。


富士フイルムメディアクレストは富士フイルムグループ会社や一般企業・大学などに微細加工製品(原盤、複製型、試作及び量産)を提供しています。
このDWL 66+は富士フイルムメディアクレストが受託する様々な微細形状の加工に使用されます。今回採用されたリソグラフィー的手法はこれまでの手法を補完しつつ更なる微細化、立体構造化や短納期の要求に応えるためのソリューションとして導入されます。

富士フイルムメディアクレストの代表取締役社長である塩入 威男氏は次のように述べています。
「近年、需要の高まっているバイオ、光学デバイス、半導体などの新たな微細構造の加工ニーズに対応するために、DWL 66+を導入しました。DWL 66+は、従来実現出来なかった加工領域をカバーし、当社の新たなビジネス市場を創造すると確信しています。」

DWL 66+は200以上の研究機関と一般企業に導入されている主要なリソグラフィー装置です。今回導入されるシステムにはアドレスグリッド5nmを使用して最小線幅300nmの描画を可能とするオプションが搭載されており、研究開発市場セグメントで競争力のあるレーザーリソグラフィー製品を上回る性能を実現しています。
また、高度なグレースケール機能を搭載し、マイクロ光学部品、バイオデバイス、その他グレースケールアプリケーションで使用される複雑なトポグラフィを作成します。この特殊なDWL 66+システムはレンズや球面基板に直接描画できるオプションを備えた日本の顧客に納入される初めての装置となります。

ハイデルベルグ・インストルメンツ本社副社長のアレクサンダー フォルザンは次のように述べています。
「富士フイルムメディアクレストは、革新的な組織として、画期的な研究を記録メディア、セキュリティ業界、データストレージ、ドキュメント制作などの新製品とサービスに変革する大きな影響力を持っています。この協力を通じて、我々は新しいアプリケーションを開発し、私たちの製品を限界まで押し上げることができます。富士フイルムメディアクレストはパートナーとして私たちを選んだことを非常に誇りに思っており、長くて実り多い協力を楽しみにしています。」


■株式会社富士フイルムメディアクレストについて： http://ffmc.fujifilm.co.jp/
東京都羽村市に本社工場があり、記録メディア(CD／DVD)の受託生産やコンバージョンサービスなどを提供しています。近年では光ディスクで培った微細加工技術を駆使して微細加工事業の拡大を図っています。


■ハイデルベルグ・インストルメンツについて： http://www.himt.de
ハイデルベルグ・インストルメンツは高解像度レーザーリソグラフィ及びマスクレス・リソグラフィー・システムのメーカーとして、これまでに800台以上を52か国・地域にインストールという実績を持ちます。ハイデルベルグ・インストルメンツのシステムは、 様々なアプリケーションへの適応能力の高さにより、直接描画やフォトマスク製作を必要とする研究開発分野から、産業界へと幅広いユーザーを獲得しています。MEMS、バイオMEMS、ナノテクノロジー、ASICS、TFT・プラズマ等のFPD、マイクロ光学等を中心とした分野の最先端の研究所や生産現場で採用されています。