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アプライド マテリアルズ、次世代の液晶ディスプレイ及び有機ELディスプレイ向け技術を発表
[12/10/31]
提供元：@Press
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●高速のリフレッシュレートで超高解像度のディスプレイを可能にする高速トランジスタを製造するPVD及びプラズマCVD技術
●大型のガラス基板を使い、コスト効率良く製造可能な新世代の装置
アプライド マテリアルズ(Applied Materials, Inc., Nasdaq：AMAT、本社：米国カリフォルニア州サンタクララ、会長兼CEO：マイケル・スプリンター)は、次世代の超高精細(UHD)テレビや携帯機器用の、高い画素密度のスクリーンを可能にする新しいPVD＊及びプラズマCVD＊技術を発表しました。液晶ディスプレイ及び有機EL技術用に高速で小型の薄膜トランジスタ(TFT)を製造する技術の核となるのは、新しい酸化物半導体及び低温ポリシリコンです。Applied AKT-PiVot(TM)PVD及びApplied AKT-PX PECVDフィルム成膜装置は、高性能な酸化物半導体及び低温ポリシリコンを、低い製造コストで量産することができます。
アプライド マテリアルズのグループバイスプレジデント兼ジェネラルマネージャー(ディスプレイ事業グループ担当)トム・エドマンは次のように述べています。「ディスプレイ産業ではTFT技術の進化により、過去20年間で最も画期的な技術の転換期に入っています。アプライド マテリアルズの新しい装置により、技術的な障壁を超え、これらの新しい膜の導入を可能にします。既に納入済みのお客様からはこれらの装置について非常に良い評価をいただいており、主要なディスプレイメーカー各社より複数台の受注をいただいております。」
酸化物半導体TFT製造用スパッタリング装置「AKT-PiVot PVD」は、弊社独自のロータリーカソード技術により、高い電子移動度を持つ新材料、IGZOにより、トランジスタチャネルを形成する膜を成膜します。「AKT-PiVot PVD」は、IGZOの課題であり、酸化物半導体技術が液晶ディスプレイの主流となる障害となっている、ディスプレイの品質を損なうムラ現象を解消する成膜技術を提供します。さらに、PiVotにより成膜されたIGZO膜の卓越したTFTの安定性により、著しくコストを低減し、美しく、手頃な価格の大画面有機ELテレビを可能にする、有機ELディスプレイ用酸化物半導体バックプレーンの製造が可能になります。
低温ポリシリコン技術は、モバイル用液晶ディスプレイ及び有機ELデバイスにおいて、高精細なディスプレイを可能にするすでに実証された技術ですが、大型化は難しく、面積当たりの高い製造コストが課題となっていました。新たに対応基板サイズが拡張した「AKT-PX PECVD」は、1.6m2から5.7m2サイズのガラス基板上に、非常に均一な低温ポリシリコン膜を成膜することができます。これらの大型基板により、ディスプレイメーカーは製造効率を著しく向上することができ、大型液晶テレビを世界中の多くの消費者の手の届く商品にしたスケールメリットの実現により、コストを下げることができるようになります。 アプライド マテリアルズの大型ガラス基板対応装置により、低温ポリシリコン技術の携帯機器及びテレビ用大型ディスプレイへの移行を加速することになるでしょう。
アプライド マテリアルズのディスプレイ製造における革新的なソリューションについての詳細については http://www.appliedmaterials.com/display をご覧ください。
◆「FPD International 2012」に出展
アプライド マテリアルズは10月31日〜11月2日までパシフィコ横浜で開催されるFPD International 2012に出展し、酸化物半導体TFT成膜用スパッタリング装置及び大型ガラス基板対応プラズマCVD装置をご紹介いたします。
◆アプライド マテリアルズについて
アプライド マテリアルズ(Nasdaq：AMAT)は、先進的な半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池の製造に用いられる革新的な装置、サービスおよびソフトウェアを提供するグローバルリーダーです。アプライド マテリアルズのテクノロジーにより、スマートフォン、薄型テレビ、ソーラーパネルなどの製品が世界中の家庭やビジネスで、より手頃な価格でご利用いただけるようになります。
詳しい情報はホームページ： http://www.appliedmaterials.com でもご覧いただけます。
＊PVD： physical vapor deposition 物理的気相成長法
CVD： chemical vapor deposition 化学的気相成長法
＃ ＃ ＃
このリリースは10月30日米国においてアプライド マテリアルズが行った英文プレスリリースをエーケーティー株式会社が翻訳の上、発表するものです。
エーケーティー株式会社(本社：大阪府、代表取締役社長：イン・ドゥー・カン)は1991年12月に設立。
●大型のガラス基板を使い、コスト効率良く製造可能な新世代の装置
アプライド マテリアルズ(Applied Materials, Inc., Nasdaq：AMAT、本社：米国カリフォルニア州サンタクララ、会長兼CEO：マイケル・スプリンター)は、次世代の超高精細(UHD)テレビや携帯機器用の、高い画素密度のスクリーンを可能にする新しいPVD＊及びプラズマCVD＊技術を発表しました。液晶ディスプレイ及び有機EL技術用に高速で小型の薄膜トランジスタ(TFT)を製造する技術の核となるのは、新しい酸化物半導体及び低温ポリシリコンです。Applied AKT-PiVot(TM)PVD及びApplied AKT-PX PECVDフィルム成膜装置は、高性能な酸化物半導体及び低温ポリシリコンを、低い製造コストで量産することができます。
アプライド マテリアルズのグループバイスプレジデント兼ジェネラルマネージャー(ディスプレイ事業グループ担当)トム・エドマンは次のように述べています。「ディスプレイ産業ではTFT技術の進化により、過去20年間で最も画期的な技術の転換期に入っています。アプライド マテリアルズの新しい装置により、技術的な障壁を超え、これらの新しい膜の導入を可能にします。既に納入済みのお客様からはこれらの装置について非常に良い評価をいただいており、主要なディスプレイメーカー各社より複数台の受注をいただいております。」
酸化物半導体TFT製造用スパッタリング装置「AKT-PiVot PVD」は、弊社独自のロータリーカソード技術により、高い電子移動度を持つ新材料、IGZOにより、トランジスタチャネルを形成する膜を成膜します。「AKT-PiVot PVD」は、IGZOの課題であり、酸化物半導体技術が液晶ディスプレイの主流となる障害となっている、ディスプレイの品質を損なうムラ現象を解消する成膜技術を提供します。さらに、PiVotにより成膜されたIGZO膜の卓越したTFTの安定性により、著しくコストを低減し、美しく、手頃な価格の大画面有機ELテレビを可能にする、有機ELディスプレイ用酸化物半導体バックプレーンの製造が可能になります。
低温ポリシリコン技術は、モバイル用液晶ディスプレイ及び有機ELデバイスにおいて、高精細なディスプレイを可能にするすでに実証された技術ですが、大型化は難しく、面積当たりの高い製造コストが課題となっていました。新たに対応基板サイズが拡張した「AKT-PX PECVD」は、1.6m2から5.7m2サイズのガラス基板上に、非常に均一な低温ポリシリコン膜を成膜することができます。これらの大型基板により、ディスプレイメーカーは製造効率を著しく向上することができ、大型液晶テレビを世界中の多くの消費者の手の届く商品にしたスケールメリットの実現により、コストを下げることができるようになります。 アプライド マテリアルズの大型ガラス基板対応装置により、低温ポリシリコン技術の携帯機器及びテレビ用大型ディスプレイへの移行を加速することになるでしょう。
アプライド マテリアルズのディスプレイ製造における革新的なソリューションについての詳細については http://www.appliedmaterials.com/display をご覧ください。
◆「FPD International 2012」に出展
アプライド マテリアルズは10月31日〜11月2日までパシフィコ横浜で開催されるFPD International 2012に出展し、酸化物半導体TFT成膜用スパッタリング装置及び大型ガラス基板対応プラズマCVD装置をご紹介いたします。
◆アプライド マテリアルズについて
アプライド マテリアルズ(Nasdaq：AMAT)は、先進的な半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池の製造に用いられる革新的な装置、サービスおよびソフトウェアを提供するグローバルリーダーです。アプライド マテリアルズのテクノロジーにより、スマートフォン、薄型テレビ、ソーラーパネルなどの製品が世界中の家庭やビジネスで、より手頃な価格でご利用いただけるようになります。
詳しい情報はホームページ： http://www.appliedmaterials.com でもご覧いただけます。
＊PVD： physical vapor deposition 物理的気相成長法
CVD： chemical vapor deposition 化学的気相成長法
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このリリースは10月30日米国においてアプライド マテリアルズが行った英文プレスリリースをエーケーティー株式会社が翻訳の上、発表するものです。
エーケーティー株式会社(本社：大阪府、代表取締役社長：イン・ドゥー・カン)は1991年12月に設立。
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